摘要：将氧化锌掺杂铝和镓制成的靶材通过射频磁控溅镀的方式沉积在玻璃基板上。用四点探针法测量了薄膜的电阻率，用紫外可见光谱仪测量其透光率。采用田口法和灰关联分析法得到制备电阻率较低且透光率较高的薄膜的最佳工艺参数为：射频功率90 W，基板温度 200 °C，沉积时间 45 min，制程压力 1.333 Pa。溅镀后在溅镀腔体里以石英灯管加热至 400 °C 退火，最终薄膜的电阻率可达 4.65 × 10−3 Ω·cm，在可见光区内的透光率为 90%。